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鎳鈦基材/鍍膜基層掃描分析

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樣品描述:

鍍膜樣品1個(gè)

檢測目的:

檢測鎳鈦合金鍍膜層(C、Si、Ni、Ti)變化趨勢。

檢測方法:

ASTM E827-08 :由AES峰判別元素的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范;

ASTM E1078- 14(20):表面分析中樣品準(zhǔn)備和安裝的標(biāo)準(zhǔn)指南;

ASTM E1829- 14(20):表面分析前樣品處理的標(biāo)準(zhǔn)指南;

ASTM E996- 19 :AES和XPS數(shù)據(jù)報(bào)告的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范;

ASTM E1127-08(15):AES分析元素層深分布的標(biāo)準(zhǔn)指南.

檢測儀器:

儀器信號:PHI 710 AES

電子槍:電子束電壓:5kV;電子束電流:10nA.

離子槍:濺射電壓:2kV;濺射面積:1mmx1mm

相對SiO2濺射速率:29. 7 nm/min

檢測結(jié)果: 

注：圖片均來自華南檢測實(shí)驗(yàn)室，未經(jīng)容許不可轉(zhuǎn)載，盜用必究！