TEM透射電鏡基本原理
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透射電子顯微鏡(TEM)是以電子束作為照明源,用電磁透鏡聚焦成像的一種高放大倍數(shù)的電子光學(xué)儀器。根據(jù)不同工作模式,可以做高分辨掃描透射STEM, 高分辨TEM像,配備的球差自動校正實現(xiàn)原子級成像,晶體的選區(qū)衍射SAD,F(xiàn)FT快速傅里葉變換做微區(qū)晶型分析,其EDX能譜可以做空間分辨率達(dá)到納米級的元素分析;配備的電子能量損失譜EELS, 適合于輕元素如C/N/O/Si在納米范圍內(nèi)的分析。 由電子槍發(fā)射出來的電子束,在真空通道中沿著鏡體光軸穿越聚光鏡,會聚成一束尖細(xì)、明亮而又均勻的光斑,照射在樣品室內(nèi)的樣品上;透過樣品后的電子束攜帶有樣品內(nèi)部的結(jié)構(gòu)信息,樣品內(nèi)致密處透過的電子量少,稀疏處透過的電子量多;經(jīng)過物鏡的會聚調(diào)焦和初級放大后,電子束進(jìn)入下級的中間透鏡和第1、第2投影鏡進(jìn)行綜合放大成像,最終被放大了的電子影像投射在觀察室內(nèi)的熒光屏板上;從而將電子影像轉(zhuǎn)化為可見光影像以供觀察。 | ![]() |
TEM透射電鏡儀器介紹
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![]() | 儀器能力介紹: STEM分辨率: 0.08nm @ Cs校正 TEM點分辨率0.204nm,晶格分辨率0.1nm EDS能量分辨率:131eV, EDS空間分辨率1~5nm EELS能量分辨率:1.0eV, 空間分辨率0.5nm 電壓:80KV~200KV EDS:Super-X EDS, SDD無窗4探頭, 0.98Srad EELS:Gatan 977 Enfinium ER |
TEM透射電鏡分析示例
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