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X射線光電子能譜(XPS）又被稱做化學分析用電子能譜(ESCA)，是通過檢測由單色X射線照射樣品產生的光電子的動能和強度，來確定樣品表面的元素組成、含量及化學態的表面分析技術。XPS常用于樣品表面納米尺度的元素成分分析，多層薄膜的深度分布分析，界面分析及元素化學態表征等。在表面改性、催化劑、腐蝕、黏附、半導體和介電材料、電子包裝材料、薄膜涂層等領域具有廣泛的應用。 X射線光電子能譜基本原理： 入射X射線照射在樣品表面會產生光電效應，激發出的光電子具備與X射線相同的能量，能克服原子核的束縛從樣品表面發射出來。通過檢測光電子的動能，可以得到光電子的束縛能（Bonding Energy)——XPS元素定性及化學態分析的依據。 束縛能=X射線能量-光電子動能 |
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XPS測試儀器介紹
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儀器能力
獲得的信息：元素(Li~U)，化學態 采集深度：5-75? 空間分辨率：7.5 μm 成分檢出限：0.1at% 深度剖析功能：具備Depth Profile 定量能力：一般用于半定量 |
XPS測試應用范圍
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1、表面污染、變色之成分分析
2、表面化學組態分析
3、樣品氧化層厚度及氧化態分析
4、多層薄膜縱深分析
5、圖譜分析
6、線掃描
XPS測試應用實例
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點分析：對指定位置進行采譜分析
深度分布分析：借助刻蝕功能，分析不同深度的成分
面分布分析：分析不同成分在樣品表面的分布情況
XPS測試樣品要求
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1、放射形、具有磁性的樣品、在X光照射下會分解的樣品，不能測試
2、樣品用量：粉末樣品原則上越細越好，5mg左右即可，塊狀樣品，需加工成片狀，上下兩面互為平行面
3、樣品需提前干燥，保護測試面，避免測試面被污染
